基于光学的精密测量广泛应用于先进制造业，包括显示面板中的光学关键尺寸（Critical Dimension）测量（亚微 米精度），TP 测量（Total Pitch）。先进模具的尺寸测量，其精度要求均在微米尺度。目前显示面板行业多采用进口光学测量设备，精密加工行业多采用三坐标测量仪实现高精度的量测。其精度和应用场景都受到限制（三坐标效率低，并且无法应用与柔性场景）。项目聚焦于光学测量，将视觉算法与精密运动相结合，实现微米尺度的高精度视觉关键尺寸量测。 

该技术主要面向显示面板、机加件、精密元器件、高端模具制造等领域。其系统结构如图 3.2 所示。

目前该技术预期实现一套测量范围 1m, 可达到检测精度 5um, 重复精度 1um 的高精度 2D 视觉在线尺寸测量系统。 可部分替代传统的三坐标测量仪，实现光学精测。 

目前系统还在研发阶段 , 初步结构设计已经完成，视觉拼接算法，自动对焦系统，自平衡系统，温度补偿系统已经完成。已经完成申请的专利包括中国发明专利 1 项，PCT1 项，美国专利 1 项，正在申请的专利 2 项。